| 1. | Q. | どのような種類のイオン注入が最も
ウェーハ チャージングで問題を起こしやすいですか ? |
| A. | 中間電流注入と同じくソース/ドレイン接合
の形成に使用されている高電流注入です。
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| 2. | Q. | イオン注入の最中に、フラッドガン
やエレクトロンシャワーは、ウェーハ チャージングを除去しますか ? |
| A. | これらは、ウェーハチャージングを減少さ
せるのに極めて効果がありますが、装置のセットアップによっては、まだ問題がある
場合もあります。
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| 3. | Q. | ソース/ドレインへのイオン注入に「安全」
なビーム電流はどれ位ですか ? |
| A.
| 注入条件が最適化されている場合、最新のイオン注入装置だと、
注入装置の定格出力で操作可能です。
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| 4. | Q. | 定格出力でスループッ
トを最大にし、ウェーハへのチャージング ダメージを引起こさないよう
に 高電流イオン注入装置を使用することはできますか ? |
| A. | できます。ただし、注入パラメータとチャ
ージ コントロールシステムの設定を最適化する必要があります。
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| 5. | Q. | CHARM®-2 ウェーハ
を使用してスループットを最大化するために、注入およびチャージコントロールシス
テムの設定を最適化することはできますか ? |
| A. | できます、これは、簡単な応用です。詳
細情報に関しては、WCM 社までご連絡ください。
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| 6. | Q. | レジストマスクの極性は、
イオン注入の最中にウェーハ チャージングに影響を及ぼしますか ? |
| A. | はい、かなり影響し
ます。います。以下の文献をご参照ください。
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Wafer Charging Monitors, Inc.